مشخصات مقاله عنوان: مشخصه یابی لایه نازک SiO2 نشانده شده روی ویفر سیلیکان به روش CVTC نوع ارائه: مقاله نویسنده: سيدي آراني طاهره سادات,شهشهاني فاطمه,ثابت دارياني رضا,سجاد بتول,شورشيني سيده زهرا عنوان همایش: كنفرانس فيزيك ايران نوع همایش: انجمن هاي علمي حامی: دانشگاه بيرجند زمان: 1392, دوره 1 چکیده: لطفا براي مشاهده چکيده به متن کامل (PDF) مراجعه فرماييد. کلید واژه: مقالات نشریه ای مرتبط: بررسي ويژگي هاي تخته ويفر چوب از ضايعات چوب راشسر مقالهتعيين ميزان شيوع آلودگي مواد غذايي به رنگ هاي مصنوعي با روش کروماتوگرافي لايه نازک در شهرکردشبيه سازي اثرات نوع آلايش و چگالي جريان در رشد سيليکان متخلخل به روش اصلاح شده انبوهش پخش محدودسخن ما مقالات همایشی مرتبط: سیلیکان متخلخل به عنوان ماده ای نوین در ساختار سلولهای خورشیدی سیلیکانیبررسی طیف فوتولومینسانس سطح ویفر GaAs در سرعت های مختلف فرآیند نازک کاریتهیه کرنش عمودی سیلیکان متخلخل بر روی زیرلایه سیلیکان نوع p (100) با استفاده از پراش پرتو ایکسرشد اکسید سیلیکان در دمای خیلی پایین به کمک پلاسمای اکسیژن و نانوبلورهای سیلیکان برای ساخت ترانزیستورهای لایه نازک بر بستر انعطاف پذیرمطالعه ی ساختاری لایه های نیترید مولیبدن انباشتی بر روی سیلیکان بازدید یکساله 16 آخرین های بلاگ آموزش اضافه کردن دو محور در ورد و اکسلچگونه جدیدترین مطلب را در گوگل جستجو کنیمیافتن کلمه مترادف انگلیسی در ورد wordتکنیک های جستجو در گوگل: استفاده از عملگر Notنمایش شمارش خطوط در ورد Wordتست آنلاین کرونا ورود به بلاگ مرکز اطلاعات علمی