مشخصات

عنوان:

طراحی و ساخت نمونه آزمایشگاهی چشمه پرتو یون پهن



گروه تخصصی:  فنی و مهندسی

سازمان مجری:  واحد صنعتی شریف 

گروه پژوهشی: فناوری خلا

پژوهشگران: 
سلحشور مصطفی (مسئول طرح)
زواریان علی اصغر (همکار طرح)
حمزه کورس (همکار طرح)
حافظی فاطمه (همکار طرح)
قطبی سیدمحمدجمال (همکار طرح)
صالحی مریم (همکار طرح)

تاریخ خاتمه:  اردیبهشت 1392

کارفرما: 

خروجی طرح: 
 
تلفن: 66005970-66031914-66024544-021

نشانی سازمان مجری: تهران، خیابان آزادی، خیابان شهید ولی اله صادقی، روبروی درب شمالی دانشگاه صنعتی شریف، پلاک 79، کدپستی
 

چکیده:

نمونه آزمایشگاهی چشمه پرتو یون پهن برای استفاده در لایه نشانی به روش کندوپاش توسط پرتو یون برای اولین بار در کشور طراحی و ساخته شد. در این طرح، پس از طراحی مفهومی و شناخت پارامترهای کلیدی یک چشمه پرتو یون پهن، از مهندسی معکوس و شبیه سازی نرم افزاری برای طراحی تفصیلی و تهیه نقشه های ساخت قطعات استفاده گردید. همچنین به منظور ارزیابی تجربی عملکرد چشمه پلاسما و سامانه استخراج، یک چیدمان آزمایشگاهی مجزا طراحی و ساخته و آزمون های متعددی برای شناخت دقیقتر نقش پارامترهای کنترلی چشمه یون انجام شد. چشمه یون ساخته شده قادر به تولید پرتو یون با قطر 5 سانتیمتر، انرژی 700 الکترون ولت و جریان 90 میلی آمپر است. چشمه پلاسمای این چشمه یون از نوع کاتد داغ و فشار کاری آن تقریبا 1 میکروبار است.



کلیدواژگان: چشمه یون، چشمه پرتو یون پهن، چشمه پلاسما، لایه نشانی به روش کندوپاش توسط پرتو یون

 
 
Title:

Design and Manufacture of a Prototype Broad Beam Ion Source



Abstract:

Prototype broad beam ion source for ion beam sputter deposition was designed and fabricated, for the first time in our country. In this project, after conceptual design and recognition of the key parameters of the source, construction design of its components was prepared in detail, using reverse engineering and computer simulation. Furthermore, in order to evaluate the operation of the plasma source and the extraction system, an experimental setup was arranged and many tests were performed for understanding the role of the control parameters. The constructed source is capable of generating an ion beam with diameter of 5 cm, energy of 700 eV and current of 90 mA. The hot cathode plasma source of this ion source operates at a pressure of 1 microbar.



Keyword(s): Ion Source, Broad Beam Ion Source, Plasma Source, Ion Beam Sputter Deposition